常规平面刻划光栅 闪耀光栅 供应常规平面刻划光栅（闪耀光栅）：机械刻划工艺，闪耀槽型将衍射能量集中于选定级次，衍射效率高。 基底：熔融石英（JGS1）/ K9 光学玻璃；铝膜镀膜。 支持定制尺寸、刻线密度、闪耀波长及入射角。 支持 OEM/ODM

平场全息凹面光栅微型光谱仪分光元件，采用VLS变线距全息光刻与像差校正技术，可将色散光谱直接聚焦至平面焦面，匹配CCD、CMOS平面阵列探测器，无需额外聚焦元件，简化光谱仪光路、缩小整机体积。产品低杂散光、无鬼线，光谱性能稳定。基底可选N-BK7光学玻璃或熔融石英，镀膜支持铝、金、银及介质膜，刻线密度、曲率半径、外形尺寸均可定制。广泛应用于微型光谱仪、便携式检测设备、荧光分析仪及科研实验分光系统

陶迈森全息衍射光栅 平面 罗兰凹面光谱仪分光元件，分为平面与罗兰凹面两种类型，采用全息干涉光刻工艺，杂散光低，无鬼线干扰。基底可选 N‑BK7 光学玻璃、熔融石英，支持铝、金、银多种反射镀膜，刻线密度、外形尺寸、铝合金基座均可按需定制。产品出厂经过完整光学检测，性能稳定，适用于分光光度计、工业光谱检测及高校科研实验，欢迎提供规格图纸咨询。

国产全谱系凸面光栅（0.2~16μm）本款凸面光栅为高光谱成像仪核心精密分光配件，覆盖 0.2μm~16μm 全光谱波段，具备纳米级刻槽工艺、低杂散光、高衍射效率优势，光谱分辨率可达 5nm。支持多规格口径、刻线密度定制，可替代进口光栅，广泛适配化工光谱检测、环境监测、科研遥感等设备，源头直供可量产，适配各类精密光谱仪器配套升级与维保替换。

平面刻划线衍射光栅尺寸为 12.712.76，刻线 1200，闪耀 1550nm。其具备多衍射角度可选、采用 UV 级熔融石英基片、对偏振光不敏感等特点，适用于光谱仪器及科研实验。该产品能适配多种设备，保证光谱分析的准确性与灵活性，为相关领域的工作提供可靠支持。

平面红外反射光栅有 707015mm 和 353515mm 等规格，有效面积对应为 6565mm 和 3333mm，刻线 50，闪耀波长 12μ。复制误差≦1％，支持定制，适用于科研实验及光谱仪等设备。常规品 7-14 天发货，定制品约一个月。