产品介绍平场全息凹面光栅（Flat-Field Holographic Concave Grating）采用VLS变线距全息光刻与像差校正技术，可将色散光谱直接聚焦至平面焦面，直接匹配CCD、CMOS平面阵列探测器，无需额外聚焦光学元件，大幅简化光谱仪光路结构，缩小整机体积。
本产品低杂散光、无鬼线，光谱性能稳定，广泛应用于微型光谱仪、便携式检测设备、荧光分析仪及科研实验分光系统。基底可选N-BK7光学玻璃、熔融石英，支持铝、金、银多种反射镀膜，刻线密度、曲率半径、外形尺寸均可按需定制。
产品特点：
平场聚焦 — 光谱聚焦于平面焦面，直接匹配CCD/CMOS阵列探测器
VLS变线距技术 — 全息光刻与像差校正，消除彗差与像散
低杂散光、无鬼线 — 全息干涉曝光工艺，光谱纯度高
多种基材与镀膜 — N-BK7、熔融石英；铝/金/银反射膜可选
参数可定制 — 刻线密度、曲率半径、外形尺寸均可按需定制
[图片：平场全息凹面光栅产品实物图]
以下为部分标准型号参数，更多规格及定制需求请联系客服咨询。
| 序号 | 外形尺寸(mm) | 刻线密度(条/mm) | 谱面宽度(mm) | 光波波段(nm) | La(mm) | Lb(mm) | 夹角(度) | 备注 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 直径48×10 | 200 | 20 | 200-800 | 84.92 | 63.91 | 41.95 | - |
| 2 | 直径48×10 | 217 | 20 | 400-450 | 84.9 | 64 | 40.5 | - |
| 3 | 42×39×8 | 925 | 12.5 | 195-325 | 83 | 83 | 3 | - |
| 4 | 33.5×30×5 | 925 | 12.5 | 195-325 | 83 | 83 | 3 | - |
| 5 | 30×30×10 | 800 | 40 | 340-850 | 86.3 | 85.9 | 0 | - |
| 6 | 30×30×10 | 780 | - | 200-800 | 86.3 | 85.9 | 0 | - |
| 7 | Φ70/Φ50/Φ40/Φ20 | 230 | 23.3 | 400-1100 | 137.357 | 126.75 | 14.7 | 多尺寸可选 |
| 8 | Φ70/Φ50/Φ40/Φ20 | 405 | 24 | 380-780 | 137.357 | 130.86 | 11.05 | 多尺寸可选 |
| 9 | Φ70/Φ50/Φ40/Φ20 | 285 | 25.1 | 190-800 | 137.357 | 130.86 | 8.72 | 多尺寸可选 |
| 10 | Φ15×5 (R=30mm) | 300L | - | 200-800 | - | - | - | 球面基底 |
| 11 | Φ24.8×23.4 (R=40mm) | 300L | - | 200-800 | - | - | - | 球面基底 |
| 12 | Φ35×32.3 (R=60mm) | 400L | - | 1100-2500 | - | - | - | 球面基底 |
| 13 | Φ35×32.3 (R=60mm) | 400L | - | 800-1500 | - | - | - | 球面基底 |
| 14 | Φ50×10.3 (R=398.83mm) | 2400L | - | 180-900 | - | - | - | 球面基底 |
| 15 | Φ56×48×11.5 (R=270mm) | 1200L | - | 200-900 | - | - | - | 球面基底 |
| 16 | 20*20 | 730 | 36.5 | 340-800 | 103.28 | 87.39 | 37 | - |
注：L为光栅刻线总数标记（如300L表示总刻线数300条）；R为曲率半径；"－"表示该参数不适用或暂未提供；更多规格及定制需求请联系客服。
微型光谱仪、便携式光谱检测设备
CCD/CMOS阵列探测器光谱分光系统
荧光分析仪、拉曼光谱仪
科研院所光学实验分光系统
工业在线光谱检测分析
基底材料：N-BK7光学玻璃（标配）、熔融石英（深紫外应用）
反射镀膜：保护铝（标配）、金（红外波段）、银（可见/近红外），可定制介质膜
可定制参数：刻线密度、曲率半径、外形尺寸、工作波段
可提供样品测试，样品费不可退还，后续批量订单可全额抵扣
标准品交期7-15天；定制订单视复杂度和数量，交期约20-45天
每片光栅出货前均经过100%衍射效率与像质检测
问：平场全息凹面光栅与普通罗兰凹面光栅有什么区别？
答：普通罗兰凹面光栅焦面为弯曲的罗兰圆，需配合机械扫描机构或弯曲探测器使用；平场凹面光栅采用VLS变线距技术，可将光谱直接聚焦于平面焦面，可直接匹配CCD、CMOS平面阵列探测器，无需额外聚焦光学元件，特别适合微型光谱仪和便携式设备。
问：VLS变线距技术有什么优势？
答：VLS（Variable Line Space）变线距全息光刻技术通过优化刻线间距分布，可有效校正像散和彗差，在宽波段范围内实现平场聚焦，同时保持高分辨率和低杂散光。
问：如何选择刻线密度？
答：高刻线密度（如1800-2400 l/mm）提供更高分辨率，适合窄波段高精度分析；低刻线密度（如200-400 l/mm）覆盖更宽光谱范围。建议提供工作波段和分辨率要求，我们可协助推荐合适的方案。
问：支持哪些基材和镀膜？
答：标配N-BK7光学玻璃，深紫外应用可选熔融石英。镀膜包括保护铝（标配）、金（红外）、银（可见/近红外），也可根据需求定制介质膜。
问：能否定制尺寸和曲率半径？
答：可以。外形尺寸、曲率半径、刻线密度、工作波段等均可按需定制。提供光路设计要求即可获得专属方案。
问：如何获取完整规格表或下单？
答：可通过平台直接发送询盘，或致电客服，注明所需规格（尺寸、刻线密度、波长范围、镀膜等）。我们将为您提供专业选型建议。样品可提供，样品费不可退还，后续批量订单可全额抵扣。
陶迈森 平场全息凹面光栅微型光谱仪分光元件
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