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平面刻划光栅

【简介】平面刻划光栅尺寸为 12.712.76,刻线 1200,闪耀 1550nm。其具备多衍射角度可选、采用 UV 级熔融石英基片、对偏振光不敏感等特点,适用于光谱仪器及科研实验。该产品能适配多种设备,保证光谱分析的准确性与灵活性,为相关领域的工作提供可靠支持。

产品型号:
更新时间:2025-12-17
厂商性质:经销商
访问量:91
产品介绍

  产品规格参数

平面刻划光栅的尺寸为 12.712.76(单位默认 mm),这一紧凑的尺寸设计使其能够适配多种光谱仪器的内部结构,便于安装和集成。刻线数量达到 1200,较高的刻线密度保证了其在光谱分析过程中具备良好的分光能力,可将复色光分解为清晰的光谱线。闪耀波长为 1550nm,意味着在该波长附近,光栅具有较高的衍射效率,能有效增强特定波段的光谱信号,提升检测的灵敏度。
  1. 核心产品特点

该产品拥有多衍射角度可选的特点,这使得它能够满足不同实验场景和仪器对光谱分析角度的多样化需求,增加了使用的灵活性。采用 UV 级熔融石英基片,这种材料具有优异的光学性能,在紫外及可见波段具有良好的透光性,同时具备较高的耐高温性和化学稳定性,能够在复杂的环境中保持稳定的性能,延长产品的使用寿命。此外,平面刻划光栅对偏振光不敏感,这一特性确保了在处理不同偏振状态的入射光时,不会因偏振差异而导致光谱信号的失真,保证了测量结果的准确性和可靠性。

平面刻划光栅

  1. 适用应用场景

由于其出色的性能,该产品广泛应用于光谱仪器及科研实验领域。在光谱仪器方面,可作为核心光学元件用于各类分光光度计、光谱仪等设备中,助力实现对物质成分、结构等的分析。在科研实验中,为材料科学、化学、生物学等领域的研究提供了关键的光谱分析支持,例如在材料成分检测、化学反应过程监测等实验中发挥重要作用。
  1. 性能优势

基于 UV 级熔融石英基片的选用,产品具备了良好的环境适应性,能够在温度变化较大、存在一定化学腐蚀的环境中稳定工作。多衍射角度的设计拓展了其应用范围,使其可以应对不同的实验要求。对偏振光不敏感的特性则大大提高了测量结果的稳定性和重复性,减少了因偏振问题带来的实验误差。综合这些优势,该产品能够为光谱分析工作提供可靠的保障,满足专业领域对高精度光学元件的严苛需求。




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