产品介绍高硼硅透明真空 光学气室是专为气体光谱分析、真空环境光学实验设计的高性能样品池。气室主体采用优质高硼硅玻璃（Borosilicate Glass 3.3）材质，具备极低的膨胀系数（≈3.3×10⁻⁶/K）和优异的化学稳定性，可在真空度≤1×10⁻³ Pa的环境下长期工作。气室两侧焊接精密光学窗口，确保紫外‑可见‑近红外（200‑2500 nm）波段的高透过率，是气体吸收光谱、化学反应过程监测、环境气体分析等科研与工业应用的理想选择。
| 参数 | 规格 |
|---|---|
| 材质 | 高硼硅玻璃 3.3（耐热冲击，耐酸碱） |
| 可用波长范围 | 200‑2500 nm（紫外‑可见‑近红外） |
| 真空度 | ≤1×10⁻³ Pa（经极限真空测试） |
| 光程 | 10 mm / 20 mm / 50 mm / 100 mm（可选，可定制） |
| 窗口材质 | 紫外熔融石英（JGS1），双面抛光 |
| 窗口透过率 | ≥85% @ 200‑2500 nm |
| 法兰接口 | KF16 / KF25（可选），或定制转接头 |
| 耐压 | 外压 0.2 MPa / 内压 0.1 MPa |
| 工作温度 | -20 ℃ ~ 150 ℃ |
| 外形尺寸 | 标准型 80 × 30 × 30 mm（不含法兰） |
✅ 高透明、高纯净
高硼硅透明真空光学气室采用3.3级高硼硅玻璃管材，壁厚均匀，气泡级别达到0‑1级，视觉通透性良好，便于实验过程中直接观察气体流动、颜色变化或冷凝现象。
✅ 极低的膨胀系数
高硼硅玻璃的热膨胀系数仅为3.3×10⁻⁶/K，远低于普通钠钙玻璃。这意味着在剧烈温度变化（如加热/抽真空放气）时，气室本体不易炸裂，可安全连接加热带或放入恒温箱中使用。
✅ 优异的化学稳定性
耐水、耐酸、耐碱、耐有机溶剂（氟化物与氟酸除外），可轻松清洗重复使用，避免污染残留。特别适合腐蚀性气体（如HCl、SO₂、H₂S）或高纯气体的光谱分析。
✅ 精密光学窗口
气室两端焊接高精度紫外熔融石英窗口，窗口与玻璃本体通过过渡密封玻璃（钨组玻璃）匹配封接，气密性达1×10⁻⁹ Pa·m³/s（氦质谱检漏）。窗口双面抛光，表面粗糙度≤0.5 nm，保证入射光斑畸变最小化。
✅ 多种接口与光程
标准配置KF真空快卸法兰，可快速接入真空系统（机械泵、分子泵或真空计）。光程长度从10 mm到100 mm可选，也可根据实验要求定制更长光程（200 mm、500 mm）。窗口倾斜角度可定制（0°或5°），用于消除标准具效应。
气体吸收光谱研究
将高硼硅透明 真空光学气室接入FTIR或UV‑Vis分光光度计的光路，通过抽真空后充入待测气体，精确测量气体在特定波长的吸收截面，用于环境监测（SO₂、NOx、CO₂）、工业过程控制（合成氨转化率、尾气分析）及大气物理研究。
光催化反应过程监测
气室可作为原位光谱池，配合紫外灯或激光光源，实时追踪光催化反应中气相产物的生成与消耗。高硼硅玻璃对紫外光有一定透过性（＞70% @ 300 nm），配合石英窗口可覆盖更宽的激发波段。
真空镀膜/等离子体诊断
气室可承受低压强，通过两端法兰连接等离子体发生器或蒸发源，用于薄膜沉积过程中的光学在线监测（椭圆偏振、反射率测试）。高透明度便于CCD相机记录等离子体发光形态。
教学演示
在高校物理化学实验教学中，高硼硅透明真空 光学气室可直观展示气体分子对特定波长光的吸收，并让学生直接观察真空抽气、充气过程，增强互动性。
| 定制项 | 可选范围 |
|---|---|
| 光程长度 | 1‑500 mm（任意尺寸） |
| 窗口材质 | 氟化钙（CaF₂，深紫外）、化钾（KBr，红外）、蓝宝石 |
| 窗口倾斜角 | 0°（标准），3°，5°，8° |
| 法兰接口 | KF10， KF16， KF25， CF35， VCR， 或内/外螺纹 |
| 侧面支管 | 1/4英寸或1/8英寸倒锥接头，用于引入热电偶或进样针 |
| 加热夹套 | 用于恒温控制，最高200℃ |
出厂检验：每只气室均经1×10⁻³ Pa真空保压12小时及氦质谱检漏，确保无泄漏。
包装：多层防震珍珠棉内衬+硬质纸箱，确保运输安全。
售后服务：提供安装指导及维修支持。窗口若出现划痕可返厂再抛光。
使用前用丙酮或酒精擦拭外表面，窗口禁止用手直接触摸。
2 抽真空时请缓慢开启阀门，避免压差过大导致玻璃破裂。
严禁在高真空下加热至300℃以上（高硼硅玻璃软化点约820℃，但密封处耐受温度低于300℃）。
若需存放腐蚀性气体或长期保持真空，建议充入干燥惰性气体保护。
本文由苏州陶迈森TAOMSUN技术团队整理完成。
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