📖 产品简介

紫外高反射镜（UV High Reflectance Mirror）是针对深紫外到近紫外波段设计的高性能光学薄膜反射元件。该产品采用先进的等离子体反应溅射镀膜工艺，在140nm至450nm波长范围内实现>98%的峰值反射率，可广泛应用于半导体量测设备、UV固化系统、光刻曝光装置等光学系统。

与传统蒸发镀膜工艺相比，等离子溅射镀膜具有膜层致密度高、附着力强、耐温性能优异、长期稳定性好等显著优势，能够满足工业级应用的苛刻要求。

📐 光学参数

🔬 镀膜类型

根据不同的应用需求，我们提供多种镀膜方案：

⚙️ 工艺优势（为什么选择等离子溅射？）

• 膜层致密度高：等离子溅射工艺生成的膜层比传统蒸发镀膜致密30%以上，有效减少水汽吸收和波长漂移。

• 附着力强：溅射粒子具有更高能量，膜层与基底结合力显著优于蒸发镀膜，通过胶带剥离测试和超声清洗测试。

• 耐温性能好：可承受300℃高温烘烤，膜层无开裂、无脱落，适用于高功率UV光源系统。

• 光谱稳定性高：长期使用环境下反射率衰减小于1%，满足工业级24/7连续运行要求。

• 批次一致性：全自动镀膜机配合在线监控系统，确保不同批次产品光谱曲线高度重合。

🎯 典型应用场景

• 半导体量测与检测：用于晶圆缺陷检测、膜厚测量、套刻精度测量等光学系统中，作为关键反射元件。

• UV固化系统：应用于UV印刷机、UV胶粘剂固化、UV涂料干燥设备，提高能量利用效率。

• 光刻曝光设备：在i线、g线光刻机中作为反射镜使用，确保曝光均匀性和重复性。

• 深紫外光学系统：用于DUV激光光路转向、光束整形等场景。

• 科研实验装置：适用于紫外光谱分析、光化学反应器等科研设备。

⚙️ 定制选项

140-450nm半导体量测紫外高镜反射镜

我们接受定制，最小起订量1-5片：

• 中心波长：140-450nm范围内任意值，精度±2nm

• 反射带宽：窄带（10-30nm）或宽带（100nm+）

• 基底材料：BK7、熔融石英、JGS1、JGS2、铝、铜、不锈钢等

• 基底尺寸：圆形（Φ5-200mm）、方形（2×2-150×150mm）或异形

• 基底厚度：0.5-10mm（可根据需求调整）

• 反射率指标：>98%、>95%或按具体需求定制

• 入射角度：0°（正入射）或45°（45度入射）

✅ 质量保证

• 每批次出货附分光光度计实测反射率曲线图

• 镀膜耐久性符合MIL-C-675C / MIL-C-48497A标准

• 环境测试：高温高湿（85℃/85%RH，72小时）无变化

• 附着力测试：3M胶带剥离测试，无膜层脱落

• 耐磨测试：擦镜纸干擦50次，无划伤

📦 起订量与交期

最小起订量（MOQ）：1-5片（支持试单）

标准品交期：7个工作日

定制产品交期：15-25个工作日

样品政策：可提供样品，费用协商（批量订单可退还样品费）

批量供货能力：1000片/月

24小时内回复 · 工程审图 · 免费技术咨询 · 可提供测试曲线